专利名称：成膜方法和成膜装置专利类型：发明专利
发明人：吉田隆,松本昌宏,谷典明,池田进,久保昌司申请号：CN201280077793.6申请日：20121218公开号：CN104870683A公开日：20150826
摘要：成膜方法是在成膜于被处理基板的包含无机物的无机层3上形成包含含氟树脂的有机层的成膜方法，在形成无机层时，进行使用了水蒸汽作为反应性气体的反应性溅射以在被处理基板上形成无机层，接下来，在无机层上形成有机层。成膜装置能够实施该成膜方法。
申请人：株式会社爱发科
地址：日本神奈川
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：杜丽利
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