专利名称：一种电子束熔覆增强高熵合金涂层及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：廖卫兵,冯创世,吴忠璇,何敏俊,王天礼,刘靖桐,刘思
威,郑海蓝
申请号：CN202010475674.2申请日：20200529公开号：CN111471994A公开日：20200731
摘要：本发明涉及一种电子束熔覆增强高熵合金涂层及其制备方法，该方法包括：制备高熵合金涂层样品；将所述高熵合金涂层样品放置在电子束熔覆设备中，通过所述电子束熔覆设备对所述高熵合金涂层样品上的高熵合金涂层进行熔覆处理，得到增强高熵合金涂层。电子束熔覆技术具有高能量密度、高真空度、可实现精确控制、提高材料纯净度等优点，有利于获得性能较为优越的涂层材料。该工艺在大气等离子喷涂的基础上对涂层进行电子束熔覆处理，旨在降低涂层中大气等离子喷涂带来的高孔隙率和氧化程度、降低杂质元素含量、提高涂层纯净度、提高强度、耐磨性和硬度，增加其使用寿命，使得涂层应用更加广泛。
申请人：深圳大学
地址：518060 广东省深圳市南山区南海大道3688号
国籍：CN
代理机构：深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)
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