一、 薄膜电池种类：
二、 非晶硅（a-Si）—纳晶硅（nc-Si）—微晶硅（μc-Si）—多晶硅（poly-Si）碲化镉（CdTe）—铜铟镓硒（CuInGaSe）—染料（T i O2）—陶瓷—有机
三、 非晶硅薄膜电池的结构：载体（玻璃）—导电膜（正极）—非晶硅（a-Si）（p-i-n）—金属膜（负极）
四、 导电膜（TCO）种类：SnO2——硬膜； ZnO或ITO——软膜
五、 非晶硅层结构种类：a-Si——a-Si / a-Si——a-Si / a-SiGe——a-Si / a-SiGe / a-SiGe——poly-Si——a-Si /poly-Si
六、 金属膜种类：Al——Ag——ZnO
七、 膜层形成方式：TCO——化学沉积（喷涂）； a-Si——气相沉积； Al——磁控溅射
八、 膜层厚度：TCO——0.7～0.8μm； a-Si——0.3～0.5μm； Al——0.8～1μm
九、 切割使用激光波长：TCO——1064 nm； a-Si /Al——532 nm
十、 非晶硅薄膜电池膜层结构及切割要求示意：
十一、 封装：双层玻璃，EVA夹层，层压封装；或贴PVC防护膜；或涂光洁树脂等。
十二、 测试：负载匹配、数据采集、光源脉宽、响应时间。
十三、 主要生产工艺流程（如下）
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