专利名称：一种磁控溅射用靶材专利类型：实用新型专利发明人：武瑞军,田富
申请号：CN201120451248.1申请日：20111115公开号：CN202347088U公开日：20120725
摘要：本实用新型公开一种磁控溅射用靶材，包括板状的靶材本体，所述的靶材本体上对应于环形刻蚀槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱状。这样在磁控溅射过程中，能够增大刻蚀的有效面积，就提高了靶材的利用率，降低了生产成本，适合在磁控溅射领域内推广使用。
申请人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司
地址：215200 江苏省苏州市吴江市经济开发区庞金路869号
国籍：CN
代理机构：苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人：孙仿卫
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